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サポートトピックス・FEM / FEMLEEG

Ver.9.1で追加された
機能について(3)


前回に引き続き、FEMLEEG Ver.9.1のポストプロセッサFEMOSに追加された機能について説明します。

以前の解析結果を各結果描画でケース選択

前回、FEMOSで解析結果のケース選択を結果描画コマンド毎に指定できる機能を紹介しました。

図1 結果描画コマンドでのケース指定

Ver.9.1で解析を行ったデータは当然、この機能に対応していますが、Ver.9.1以前に解析をしたデータについては、そのままでは本機能に対応できません。


以前のデータを対応させるには、ファイルを読み込み後、ファイルメニューの「ケース情報生成」を実行します。

図2 ファイルメニュー

データ毎に1度実行しておけば、以降結果描画コマンドでケース指定ができるようになります。


3次元評価ライングラフ

従来の評価ライングラフ機能は、モデルの表面で評価ラインを指定します。内部の分布を評価ライングラフで表す場合、描画範囲選択で対象となる位置を表面に露出させてから指定しなければなりませんでした。

図3 描画範囲選択→評価ライン指定

Ver.9.1で追加された3次元評価ラインでは直接モデル内部を貫通する評価ラインを指定してグラフを描画することができます。

図4 モデル内部に評価ラインを指定した分布グラフ


複数切断面選択

描画範囲選択に複数切断面選択の機能が追加されました。


これまでは切断面は1つずつしか選択できなかったため、断面毎の比較が、断面選択の繰り返しや凡例レベルの統一などで煩わしいことがありました。

図5 単一切断断面毎の比較

複数の断面(最大10断面)を一括で選択できるため、断面毎の比較が容易になります。

図6 複数切断断面毎の比較


評価ライングラフ実座標参照

円筒面を正面から見た場合等、評価ライングラフの横軸距離は投影面上(図化座標)の距離となっていました。画面に投影した面上の距離が実際の距離とは異なるケースでは、実際の分布と異なるグラフを描画する場合がありました。


これを改善するため評価ライングラフに実座標値を参照する機能が追加されました。

図7 投影面と実座標の評価ラインの違い

図8 図化座標(上)と実座標(下)の評価ライングラフ

(Up&Coming '20 盛夏号掲載)